無電解ニッケルめっきと電気めっきの特性比較
性質
(特性)
無電解ニッケルめっき
(Ｎｉ−Ｐ)
無電解ニッケルめっき
(Ｎｉ−Ｂ)
電気ニッケルめっき
(電解)
成分
Ni:90-92％P:8-10％
Ni:97-99.7％B:0.3-3％
Ni:99.5％
組織
非結晶性(熱で結晶化)
微結晶性
微結晶性
融点
890
(P:9％)
1350-1400
(B:1％)
1450
電気抵抗
60
/cm(熱処理400
で1/3に低下
57
/cm
約8.5
/cm
熱膨張係数
13-14.5
m/m
12
m/m
14-17
m/m
比重
7.9(P:9％)
8.6(P:9％)
8.6(P:9％)
硬さ
Hv500
50析出状態
900
100(400
、1hr)
Hv750
50析出状態
950
50(300
、1hr)
Hv150
250普通浴
400-500光沢浴
密着性
50000-70000psi
−
50000-60000psi
応力
圧縮応力
引張り応力
引張り応力
磁気特性
非磁性熱で磁性化
強磁性
強磁性
均一析出性
5％以下
5％以下
不安定
析出速度
15-20
ｍ/hr
6-9
ｍ/hr
25
ｍ/hr(2A/dm
2
)
はんだ付け性
1.8秒析出状態
1.5秒析出状態
−
(濡れ性)
濡れない(400
、5分)
2.0秒(400
、5分)
−
耐食性
電気Ｎｉより優れている
Ni-Pより劣る
Ni-Pより劣る
高温酸化性
350
30分が限界
450
30分が限界
作業温度
90
(80-95
)
60
(55-65
)
50
(45-55
)
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(P:9％)
/cm(熱処理400
50析出状態