スルファミン酸ニッケル浴組成および使用条件
成分・項目
一般浴
高濃度浴
スルファミン酸ニッケル(g/l)
300〜450
600
ホウ酸(g/l)
30〜45
30〜45
塩化ニッケル(g/l)
0〜15
0〜10
臭化ニッケル(g/l)
3〜10
応力減少剤
適量
適量
pH
3.5〜4.5
3.5〜4.5
浴温度(
)
40〜60
40〜60
陰極電流密度(A/dm
2
)
3〜10
5〜40
かく拌
空気・機械かく拌
空気・機械かく拌
ろ過
連続ろ過
連続ろ過
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