東京都鍍金工業組合

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無電解ニッケルめっきと電気めっきの特性比較

性質
(特性)
無電解ニッケルめっき
(Ni−P)
無電解ニッケルめっき
(Ni−B)
電気ニッケルめっき
(電解)
成分 Ni:90-92%P:8-10% Ni:97-99.7%B:0.3-3% Ni:99.5%
組織 非結晶性(熱で結晶化) 微結晶性 微結晶性
融点 890度(P:9%) 1350-1400度(B:1%) 1450度
電気抵抗 60/cm(熱処理400度で1/3に低下 57/cm 約8.5/cm
熱膨張係数 13-14.5m/m度 12m/m度 14-17m/m度
比重 7.9(P:9%) 8.6(P:9%) 8.6(P:9%)
硬さ Hv50050析出状態
900100(400度、1hr)
Hv75050析出状態
95050(300度、1hr)
Hv150250普通浴
400-500光沢浴
密着性 50000-70000psi 50000-60000psi
応力 圧縮応力 引張り応力 引張り応力
磁気特性 非磁性熱で磁性化 強磁性 強磁性
均一析出性 5%以下 5%以下 不安定
析出速度 15-20m/hr 6-9m/hr 25m/hr(2A/dm2)
はんだ付け性 1.8秒析出状態 1.5秒析出状態
(濡れ性) 濡れない(400度、5分) 2.0秒(400度、5分)
耐食性 電気Niより優れている Ni-Pより劣る Ni-Pより劣る
高温酸化性 350度30分が限界 450度30分が限界
作業温度 90度(80-95度) 60度(55-65度) 50度(45-55度)

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