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スルファミン酸ニッケル浴組成および使用条件

成分・項目 一般浴 高濃度浴
スルファミン酸ニッケル(g/l) 300〜450 600
ホウ酸(g/l) 30〜45 30〜45
塩化ニッケル(g/l) 0〜15 0〜10
臭化ニッケル(g/l) 3〜10
応力減少剤 適量 適量
pH 3.5〜4.5 3.5〜4.5
浴温度(度) 40〜60 40〜60
陰極電流密度(A/dm2) 3〜10 5〜40
かく拌 空気・機械かく拌 空気・機械かく拌
ろ過 連続ろ過 連続ろ過

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